Suomen Akatemia
Rahoituspäätös
 
Nimi Ritala, Mikko K
Organisaatio Helsingin yliopisto
Tutkimusaihe Jalometallien ja näiden yhdisteiden atomikerroskasvatus
Päätös 309552
Päätöspvm 20.06.2017
Rahoituskausi 01.09.2017 - 31.08.2021
Rahoitus (€) 597 980
WebFOCUS Report
Hankkeen julkinen kuvaus
Atomikerroskasvatus (ALD) on kemiallinen kaasufaasimenetelmä ohutkalvojen kasvattamiseen. ALD:llä kasvatetut kalvot ovat erittäin konformaalisia, tasaisia yli suurtenkin substraattien, paksuudeltaan ja koostumukseltaan tarkasti kontrolloituja ja toistettavia. ALD-menetelmän etujen hyödyntäminen edellyttää, että kullekin kiinnostuksen kohteena olevalle ohutkalvomateriaalille löydetään sopivat lähtöaineyhdistelmät. Tämän tutkimuksen tavoitteena on täydentää ALD-materiaali- ja -prosessivalikoimaa kehittämällä uusia prosesseja jalometalleille ja näiden yhdisteille: (i) kullan, hopean ja reniumin ALD-prosessit (ii) muiden jalometallien ei-hapettavat ALD-prosessit (iii) muiden jalometalliyhdisteiden kuin oksidien ALD-prosessit Lisäksi tutkitaan reaktiomekanismeja näissä prosesseissa, kuten myös niiden soveltuvuutta paikkaselektiiviseen kasvatukseen. Materiaalien toimivuutta valikoiduissa sovelluksissa, erityisesti elektroniikassa ja fotokatalyysissä tullaan myös selvittämään.